光刻胶产业化再度传出利好。 小程序开发 据东湖国度自主翻新示范区官网本日（10月15日）音讯，近日武汉太紫微光电科技有限公司（下称“太紫微公司”）推出的T150 A-光刻胶居品，已通过半导体工艺量产考据，终结配方全自主缠绵。 该居品“对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于海外同系列居品UV1610，T150 A在光刻工艺中发挥出的极限分辨率达120nm，且工艺宽厚度更大，踏实性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后谈刻蚀工艺发挥更为友好，通过考据发现T150 A中密集图形进程刻蚀，基层介质的侧

据中国光谷公众号，近日，光谷企业在半导体专用光刻胶领域达成紧要破裂。 武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）推出的T150 A光刻胶产物，已通过半导体工艺量产考证，达成配方全自主筹算，有望创始国内半导体光刻制造新形式。 该产物对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于被业内称之为“妖胶”的国际同系列产物UV1610，T150 A在光刻工艺中推崇出的极限区分率达到120nm，且工艺优容度更大，融会性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后谈刻蚀工艺推崇更为友好，通过考证发现T150 A中

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